Webová nabídka

Hledání produktů

Jazyk

Podíl

Technologie

Domov / Technologie / DK PVD povlak

Kategorie aplikací

Nedávné zprávy

DK PVD povlak

PVD je zkratka fyzické depozice par (depozice fyzické páry). Odkazuje na praxi použití technologie vypouštění s nízkým napětím a vysokým proudem ARC pro odpařování cílového materiálu a ionizaci jak odpařeného materiálu, tak plynu za vakuových podmínek. Použitím zrychlení elektrického pole se na obrobku ukládá odpařený materiál a jeho reakční produkty.
Technologie PVD (Fyzikální depozice par) je rozdělena hlavně na tři typy: vakuové odpařovací povlak, vakuový rozprašovací povlak a vakuový iontový povlak.