Jaké faktory ovlivní výkon povlaku vakuového povlakového stroje?

Jaké faktory ovlivní výkon povlaku vakuový povlak ?

Pokud chce vakuový potahovací stroj obtěžovat dobrý film, musí zajistit, aby mnoho faktorů bylo v normálním stavu, jako je vakuový povlak, základní cílová vzdálenost, teplota odpařování, teplota substrátu, zbytkový tlak plynu a další faktory. V určitém faktoru existuje odchylka. Ovlivní to výkon vrstvy povlaku vakuového povlakového stroje. Následuje vakuový editor, který podrobně vysvětlí, jaké faktory ovlivní výkon povlaku vakuového potahovacího stroje. Doufám, že vám to může pomoci:

1. Míra odpařování

Velikost míry odpařování má velký vliv na usazený film. Protože struktura povlaku tvořená nízkou rychlostí depozice je volná a snadno vložila velké částice, aby se zajistila kompaktnost struktury povlaku, je velmi bezpečné zvolit vyšší rychlost odpařování. Když je tlak zbytkového plynu ve vakuové komoře konstantní, míra bombardování bombardování substrátu je konstantní hodnotou. Po výběru vyšší rychlosti depozice se proto sníží zbytkový plyn obsažený v uloženým filmu, čímž se sníží chemická reakce mezi zbytkovými molekulami plynu a částicemi odpařeného filmového materiálu. Proto lze zlepšit čistotu usazeného filmu. Je třeba poznamenat, že pokud je míra depozice příliš vysoká, může to zvýšit vnitřní stres filmu, což má za následek zvýšení defektů ve filmové vrstvě a dokonce i praskání filmové vrstvy v těžkých případech. Zejména v procesu reaktivního odpařování lze vybrat nižší rychlost depozice, aby se umožnil reakční plyn a odpařené částice filmového materiálu, aby dostatečně reagovaly. Pro odpařování materiálu by samozřejmě měly být samozřejmě použity různé míry odpařování. Jako praktický příklad toho, jak může nízká míra depozice ovlivnit výkon filmu, je depozice reflexního filmu. Například, když je tloušťka filmu 600x10-8 cm a doba odpařování je 3S, odrazivost je 93%. Pokud je však rychlost odpařování zpomalena za stejnou tloušťku filmu, dokončení depozice filmu trvá 10 minut. V této době je tloušťka filmu stejná. Reflektivita však klesla na 68%.

2. teplota substrátu

Teplota substrátu má také velký účinek na odpařovací povlak. Zbytkové molekuly plynu adsorbované na povrchu substrátu při vysokých teplotách substrátu se snadno odstraní. Zejména je důležitější vyloučení molekul vodních párů. Navíc není snadné podporovat přechod z fyzikální adsorpce na chemickou adsorpci při vyšší teplotě, čímž se zvyšuje vazebná síla mezi částicemi. Kromě toho lze snížit rozdíl mezi teplotou rekrystalizace molekul páry a teplotou substrátu, čímž se sníží nebo eliminuje vnitřní napětí na rozhraní filmu-substrátu. Kromě toho, protože teplota substrátu souvisí s krystalickým stavem filmu, amorfní nebo mikrokrystalické povlaky bývají snadno vytvořeny za nízkých nebo žádných podmínek zahřívání na substrátu. Naopak, když je teplota vyšší, je snadné generovat krystalický povlak. Zvýšení teploty substrátu je také prospěšné pro zlepšení mechanických vlastností povlaku. Teplota substrátu by samozřejmě neměla být příliš vysoká, aby se zabránilo přehodnocení odpařeného povlaku.

3. vliv zbytkového tlaku plynu ve vakuové komoře na filmový výkon

Tlak zbytkového plynu ve vakuové komoře má velký vliv na výkon membrány. Pokud je tlak příliš vysoký, zbytkové molekuly plynu se nejen snadno srazí s odpařenými částicemi, takže se sníží kinetická energie střelby na substrát, což ovlivňuje adhezi filmu. Nadměrný zbytkový tlak plynu navíc vážně ovlivní čistotu membrány a sníží výkon povlaku.

4. Vliv teploty odpařování na povlak odpařování

Vliv teploty odpařování na výkon filmu je ukázán rychlostí odpařování jako funkce teploty. Když je teplota odpařování vysoká, sníží se odpařování teplo. Pokud se filmový materiál odpaří nad teplotou odpařování, může i mírná změna teploty způsobit rychlou změnu rychlosti odpařování filmového materiálu. Proto je velmi důležité přesně ovládat teplotu odpařování během ukládání filmu, aby se zabránilo velkému teplotnímu gradientu, když je zdroj odpařování zahříván. U filmového materiálu, který je snadno vznešený, je samotný filmový materiál vybrán jako ohřívač a velmi důležitá jsou také opatření, jako je odpařování. .

Výše uvedené čtyři aspekty jsou běžné faktory ovlivňující výkon vrstvy povlaku vakuového povlakového stroje a jsou také konvenčními ovlivňujícími faktory. Během procesu povlaku vakuového potahovacího stroje je nutné zajistit, aby tyto faktory byly v normálním stavu.