Magnetron rozprašovací vakuový povlak

Magnetron rozprašovací vakuový povlak

Vakuový povlakový systém magnetronu používá vysokoenergetické ionty k vložení tenké vrstvy materiálu na substrát. Proces je rychlý a levný a produkuje povlak s vysokou čistotou. Vysoce energetické ionty se uvolňují ze zdrojového materiálu a srazí se s inertním plynem, jako je argon. Tyto ionty produkují plazmu a atomy zdrojového materiálu jsou vypuštěny.

Ve výrobě šperků se běžně používá magnetron rozprašovací stroj. Jeho rotační a stacionární vzory lze snadno upravit tak, aby splňovaly širokou škálu požadavků na povlak. Tento stroj je vhodný pro povlak jakéhokoli kovového nebo nekovového substrátu. Lze jej také použít k natáčení plastového, keramického a křišťálového skla. Mezi jeho špičkové funkce patří dobrá uniformita a rychlé míry depozice.

Magnetron rozprašovací vakuový povlakový systém je výkonným a všestranným nástrojem pro výrobu vysokých objevů. V závislosti na potřebách a aplikaci může tato technika vytvářet tenké filmy se širokou škálou požadovaných vlastností. K optimalizaci procesu lze použít různé energetické systémy, materiály a plyny. Před zahájením procesu je substrát namontován do držáku. Držák pak prochází komorou záznamu zatížení, aby se zabránilo pohybu.

Tento vakuový potahový systém je nízkonákladová metoda, která produkuje vysoce kvalitní povlaky s vysokou procento míry průchodu. Je ideální pro výrobu letectví a špičkové elektroniky. Může být také použit pro plot a kompozitní kovové filmy. To je ekonomický a efektivní způsob, jak obtěžovat mnoho typů materiálů.

Vakuový povlakový systém magnetronu používá zdroj rozprašování, který využívá výhody elektronového uvěznění. Elektrony pasti magnetů na povrchu cíle, což má za následek vyšší plazmatickou hustotu a vyšší míru depozice. Na rozdíl od konvenčních metod rozprašování je tato technika bezpečná a nezpůsobuje poškození objektu povlaku.

Důležitým hlediskem je rozprašovací plyn použitý v tomto procesu. Typ plynu k použití závisí na atomové hmotnosti substrátu. Například lehčí materiály těží z používání Neon nebo Xenon. Pokud komora obsahuje kyslík, bude tento proces reaktivní.

Proces rozprašování zahrnuje vystavení cílového materiálu reaktivním plynům. Tyto plyny reagují s cílovým materiálem a vytvářejí molekulární sloučeninu. Materiál se pak ukládá jako tenký filmový povlak. Například, když je křemíkový cíl reaktivně roztrhán kyslíkem nebo dusíkem, produkuje nitrid oxidu křemíku nebo křemík. Tato metoda se často používá k natáčení více materiálů současně.

Magnetron rozprašovací potahovací stroj

Multi-Arc iont & rozprašovací povlaky lze ukládat v široké škále barev. Zazvonění barev lze dále zvýšit zavedením reaktivních plynů do komory během procesu depozice. Obecně používané reaktivní plyny pro dekorativní povlaky jsou dusík, kyslík, argon nebo acetylen. Dekorativní povlaky se vyrábějí v určitém rozsahu barev, v závislosti na poměru kov k plynu v povlaku a struktuře povlaku. Oba tyto faktory lze změnit změnou depozičních parametrů.

Před depozicí jsou části vyčištěny, takže povrch je bez prachu nebo chemických nečistot. Po zahájení procesu povlaku jsou všechny příslušné procesní parametry nepřetržitě monitorovány a řízeny automatickým systémem řízení počítače.

• Materiál substrátu: Sklo, kov (uhlíková ocel, nerezová ocel, mosaz), keramika, plast, šperky.

• Typ struktury: Vertikální struktura, #304 nerezová ocel.

• Potahový film: Multifunkční kovový film, kompozitní film, Transparentní vodivý film, Film zvyšující odraznost, elektromagnetický stínící film, dekorativní film.

• Filmová barva: Multi Colors, Gun Black, Titanium Golden Color, Rose Golden Color, Color z nerezové oceli, fialová barva, tmavě černá, tmavě modrá a další další barvy.

• Typ filmu: Tin, CRN, Zrn, Ticn, Ticrn, Tinc, Tialln a DLC.

• Spotřební materiál ve výrobě: titan, chrom, zirkonium, železo, cíl slitiny; Target rovin, válcový cíl, dvojčatý cíl, opačný cíl.