Aplikace magnetronového rozprašování- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Aplikace magnetronového rozprašování

Magnetron Spartring je efektivní metoda pro ukládání nízké teploty v technologii PVD. Během magnetronového rozprašování jsou elektrony absorbovány krytem tmavého pole nebo speciálně připojenou anodou a teplota získaného substrátu je nižší než teplota tradičního rozprašování. Jiné materiály citlivé na teplotu jsou uloženy jako substráty. V roce 1998 navrhl Teel Coating Ltd. technologii ukládání vysoce kvalitních nátěrů cínu a TICN magnetorovým rozprašováním při nízké teplotě a teplota substrátu by mohla být snížena na menší než 70 ° C, čímž se rozšířila možný rozsah podobných povlaků. V posledních letech Loughborough University ve Velké Británii úspěšně snížila teplotu substrátu během magnetorového rozprašování z 350 na 500 ° C na přibližně 150 ° C při pokojové teplotě a úspěšně aplikovala povlaky cínu a CRN na umělé povrchy zubních plísní a mědi povrchem svařovací kontaktní hlavy zvyšují 5 až 10krát. Je vidět, že výzkum metod a procesů ukládání nízké teploty je velmi smysluplný a slibný.